紫外線光刻機是印制板制造工藝中的重要設備。傳統光刻機的玻璃-邁拉曬架在生產過程中需要人工趕氣,邁拉膜需要經常更換。由于冷卻系統過于臃腫,使得其生產成本高、效率低,已不能滿足PC B 生產的需要。在實驗基礎上設計了雙玻璃曬架光刻機，改進了其主要組成部分,包括曬架系統、光路系統、冷卻系統以及電氣和控制系統的整體設計。
該光刻機可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產。它經過**設計，方便處理各種非標準基片、例如混合、高頻元件和易碎的***族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設備可通過選配升級套件，實現紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點：高分辨率掩模對準光刻，特征尺寸優于0.5微米、裝配SU**的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實現快速準確對準、針對厚膠工藝進行優化的高分辨光學系統、可選配通用光學器件，在不同波長間進行快速切換等。
采用三柔性支點實現高精度自動調平；真空接觸自動曝光；樣片升降、調平、接觸、曝光、復位實現自動化控制；采用積木錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明；可連續設定分離間隙；采用雙目雙視場顯微鏡實現高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。
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