紫外光刻機(jī)的高性?xún)r(jià)比令人印象深刻
光刻是一種使用曝光將設(shè)計(jì)的掩模圖案轉(zhuǎn)移到基板上的工藝。紫外光刻機(jī)是專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)的高分辨率光刻系統(tǒng)。光刻機(jī)提供良好的基板適應(yīng)性,可夾持標(biāo)準(zhǔn)尺寸基板的最大直徑為150mm。該設(shè)備提供多種曝光方式,包括真空、軟接觸、硬接觸、最近鄰等,可實(shí)現(xiàn)鍵合對(duì)準(zhǔn)、納米壓紋、微接觸...